芯片为什么要用光刻机

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1、掩模对准器，也称为掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩模对准光刻，所以叫掩模对准系统。

2、因为芯片比这个小很多，总是nm，最低也是微米级别，所以什么样的雕刻刀可以这么精细。于是我想，用光在芯片上刻字就是光刻机。

3、光刻意味着用光制作图形(过程);将硅片表面的胶整平，然后将掩膜上的图案转移到光刻胶上，将器件或电路结构暂时“复制”到硅片上的过程。形象地说，光刻机是一个“投影仪”，它把我们想要的图案投射到芯片上。

延伸阅读

光刻机到底难在哪里

1.难点在于其制造精度。为了形象地解释，光刻机制造芯片的过程相当于“冲洗照片”。所设计的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄内容”，晶圆相当于“相纸”，光刻机的其他机构相当于相机的“镜头机构”。

2.不同的是，显影照片是将照片放大呈现在相纸上，而制造芯片是将设计好的集成电路缩小到晶圆上拇指大小的区域，电路的投影精度达到纳米级。

3.光刻机的加工过程，光刻机技术的发展已经到了紫外光的阶段。我们将以紫外光为例来说明。简单来说，光刻机加工芯片的过程就是光源提供的紫外光照射刻有电路设计图的掩模板，通过掩模板后进入物镜。物镜大规模缩小掩模板上的电路图后，将电路投影到硅片上，将设计好的电路图刻在硅片上。在这个过程中，曝光阶段和测量阶段处于联动状态。

荷兰光刻机为什么厉害

1.r&d投资强劲：光刻机是一项尖端技术，其技术难度是公认的。没有持续而强劲的r&d投资，就不可能引领这项技术。asml自成立以来，在研发方面投入巨资，例如2019年asml的销售额约为21亿欧元，而研发支出达到4.8亿欧元，占收入的22.8%，非常高。由于大量的资金投入，asml在关键技术领域一直处于领先地位。

2.美国和欧盟的支持：asml虽然是荷兰公司，但背后有欧盟和美国的实力，很多关键技术都是美国和欧盟国家提供的。比如德国先进的机械技术和世界一流的蔡司镜头，再加上美国提供的光源，使得asml在光学科学技术上发展迅速，几乎达到无与伦比的地位。

3.准确把握技术转折点：目前全球顶尖光刻机有三家厂商，分别是asml、尼康、佳能。2007年之前三大厂商差别不大，竞争的转折点出现在2007年。2007年，asml与tsmc技术方向合作，推出193 nm光源浸没系统，将液体引入光学透镜和硅片作为介质。在原有光源和透镜的条件下，可以显著提高刻蚀精度，成为高端技术的主流技术解决方案。当时日本的尼康和佳能主要是推广157 nm光源的干法光刻。这条路线后来被市场抛弃，也成为尼康和佳能进入衰退的转折点。后来被asml垄断了。

光刻机是干嘛的

1.光刻机，又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅晶片上。光刻机的类型可以分为接触曝光、接近曝光和投影曝光。

2.光刻机的工作原理是通过一系列光源能量和形状控制方法，将光束通过带有电路图的掩膜版传输，通过物镜补偿各种光学误差，缩小后将电路图映射到硅片上。然后用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。